半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

工藝流程：

設(shè)備新工藝一:

原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地區(qū)不合選用)→緊密過(guò)濾器(或稱(chēng)保安過(guò)濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過(guò)濾器(或稱(chēng)保安過(guò)濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過(guò)濾→UV紫外線(xiàn)殺菌→設(shè)備用水(水質(zhì)可以達(dá)到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下，25 ℃)工業(yè)(又稱(chēng)超純水機(jī)、超純水設(shè)備等)/半導(dǎo)體用超純?nèi)ルx子水(指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水)

設(shè)備新工藝二:

原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地區(qū)不合選用)→緊密過(guò)濾器(或稱(chēng)保安過(guò)濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過(guò)濾器(或稱(chēng)保安過(guò)濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過(guò)濾→UV紫外線(xiàn)殺菌→設(shè)備用水(水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下，25 ℃) 

應(yīng)用領(lǐng)域:

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;

　　電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)配料用純水;

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水;

　　生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;

　　晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;

　　半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;

　　高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn);

　　汽車(chē)、家電表面拋光處理。